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評(píng)估掩模相關(guān)誤差源的系統(tǒng)和方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2753345

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本發(fā)明一般涉及到評(píng)估掩模,且特別是用于評(píng)估光刻掩模相關(guān)誤差源的領(lǐng)域。 背景技術(shù)微電子器件性能通常受到術(shù)語(yǔ)稱(chēng)作臨界尺寸或CD的臨界特征尺寸中出現(xiàn)的變化 的限制。在光刻工藝中微電子器件通常使用光刻掩模(也稱(chēng)作掩?;蚩叹€)來(lái)制造。后者 是半導(dǎo)體器件制造中的一種重要工藝,且包括根據(jù)被制造半導(dǎo)體器件的電路設(shè)計(jì)圖案化晶 片表面。這種電路設(shè)計(jì)首先在掩模上被圖案化。由此,為了實(shí)現(xiàn)操作半導(dǎo)體器件,掩模必須 沒(méi)有缺陷。掩模通過(guò)復(fù)雜工藝被制造且能夠容許一個(gè)或多個(gè)誤差源。而且,通...
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