技術(shù)編號(hào)：2752454
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景技術(shù)在微電子工業(yè)和包括微型結(jié)構(gòu)制造的其他工業(yè)(如，微型機(jī)械，磁頭等)中，一直要求不斷縮小結(jié)構(gòu)形狀的尺寸。在微電子工業(yè)中，這種要求則體現(xiàn)為縮小微電子設(shè)備的尺寸，和/或在一定尺寸的芯片上提供更多的電路。有效的光刻技術(shù)是達(dá)到縮小形狀尺寸要求的關(guān)鍵。光刻對(duì)微型結(jié)構(gòu)制造的影響不僅是在所需襯底上直接形成圖形，而且還可以制作一般在這種成像中使用的掩模。一般的光刻過程包括，通過在成像輻射下以圖形方式暴露輻射敏感的抗蝕劑而形成具有圖形的抗蝕層。隨后，圖像通過將暴露的抗蝕...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。