技術(shù)編號(hào)：2751892
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。具有靜電放電保護(hù)結(jié)構(gòu)的光刻掩模版本申請(qǐng)要求于2008年10月31日提交的美國專利申請(qǐng)12/263,413的優(yōu)先權(quán)。 背景技術(shù)本發(fā)明涉及光刻掩模版(photolithographic reticle)，并且更特別地涉及具有靜電放電保護(hù)結(jié)構(gòu)的掩模版。集成電路包含導(dǎo)電線和半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)的圖案。這些圖案化結(jié)構(gòu)的寬度通常小于一微米。這類窄特征是利用光刻半導(dǎo)體制造技術(shù)加工的。在典型光刻工藝中，被稱為光刻掩模版(photolithographic reticle)或光掩...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。