技術(shù)編號：2751540
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及微光刻投射曝光設(shè)備，特別是涉及具有反射鏡陣列的這樣的裝置的照明系統(tǒng)和投射物鏡，該反射鏡陣列具有基體和布置在基體上的多個反射鏡，并且該多個反射鏡可以相對于基體傾斜或在它們的排列上以其他方式改變。背景技術(shù)集成電路和其他微結(jié)構(gòu)元件通常通過將多個結(jié)構(gòu)層施加到合適的基板(例如，可以是硅晶片)上來制造。為了構(gòu)造這些層，它們首先以對特定波長范圍的光(例如，深紫外 (DUV)或極紫外(EUV)光譜范圍的光)敏感的光致抗蝕劑覆蓋。目前，用于DUV系統(tǒng)的常規(guī)光波長為...
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