技術(shù)編號(hào):2750972
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種新的抗反射涂層組合物,以及其用于通過(guò)在反射性基材和光致抗 蝕劑涂層之間形成該新的抗反射涂層組合物的薄層而進(jìn)行圖像處理的用途。這種組合物特 別可用于通過(guò)光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體器件。背景技術(shù)光致抗蝕劑組合物在縮微平版印刷工藝中用于制造小型化電子元件,例如制造計(jì) 算機(jī)芯片和集成電路。通常,在這些工藝中,首先向基材,例如用于制造集成電路的硅晶片, 施涂光致抗蝕劑組合物的薄涂膜。然后烘烤已涂布的基材,以蒸發(fā)光致抗蝕劑組合物中的 任何溶劑并將涂層固定到基材上...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。