技術(shù)編號：2750110
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件和微機(jī)械制造的光刻和印刷制版領(lǐng)域。特別涉及一種化學(xué)增幅光致抗蝕劑及其光刻工藝流程的設(shè)計(jì)。大規(guī)模集成電路的集成度以三年增長四倍的速度發(fā)展著。集成度的不斷提高，不僅意味著最小器件尺寸的降低，也意味著高速、高可靠、低能耗和低成本。光刻工藝是大規(guī)模集成電路的關(guān)鍵技術(shù)，而光致抗蝕劑又是光刻技術(shù)的關(guān)鍵材料，電路集成度的不斷提高也必然要求光刻工藝和光致抗蝕劑的發(fā)展。化學(xué)增幅抗蝕劑作為一種新型的光刻膠，它滿足了光刻技術(shù)發(fā)展的要求。化學(xué)增幅抗蝕劑在受照射...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。