技術編號：2748700
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種光刻機硅片臺雙臺交換系統(tǒng)，該系統(tǒng)應用于半導體光刻機中，屬于半導體制造設備。 背景技術在集成電路芯片的生產過程中，芯片的設計圖形在硅片表面光刻膠上的曝光轉印 (光刻)是其中最重要的工序之一，該工序所用的設備稱為光刻機(曝光機)。光刻機的分 辨率和曝光效率極大的影響著集成電路芯片的特征線寬(分辨率)和生產率。而作為光刻 機關鍵系統(tǒng)的硅片超精密運動定位系統(tǒng)(以下簡稱為硅片臺)的運動精度和工作效率，又 在很大程度上決定了光刻機的分辨率和曝光效率。...
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