技術(shù)編號：2744887
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻，尤其涉及一種。 背景技術(shù)光刻技術(shù)是采用選定的輻射源(如紫外光源)對涂有輻射敏感物質(zhì)的襯底(如硅 片)指定位置進(jìn)行曝光以制造器件的技術(shù)。在半導(dǎo)體器件關(guān)鍵尺寸CD不斷縮小的趨勢下，提高光刻設(shè)備中光學(xué)系統(tǒng)的圖像 分辨率是關(guān)鍵。光刻設(shè)備中，光學(xué)系統(tǒng)包括照明系統(tǒng)和光刻投影物鏡。照明系統(tǒng)的光源波長λ、光刻投影物鏡的數(shù)值孔徑NA和工藝因子Kl是決定光學(xué) 系統(tǒng)分辨率的因素，光源波長λ的減小、數(shù)值孔徑NA的增大以及工藝因子Kl的減小都有 利于提高光學(xué)系統(tǒng)分辨...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。