技術(shù)編號：2744792
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉 及集成電路制造領(lǐng)域，且特別涉及一種硅片邊緣保護(hù)方法與裝置。 背景技術(shù)光刻裝置主要用于集成電路IC或其他微型器件的制造。通過光刻裝置，可將掩 膜圖形成像于涂覆有光刻膠的晶片上，例如半導(dǎo)體或LCD板。光刻裝置通過投影物鏡曝 光，將設(shè)計(jì)的掩模圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，而作為光刻裝置的核心元件，硅片邊緣保護(hù)對 實(shí)現(xiàn)負(fù)膠工藝曝光過程硅片邊緣保護(hù)功能有重要的影響。為了獲得成像效果，將光刻膠涂敷于硅片上，曝光后能產(chǎn)生腐蝕圖形的一種光 敏材料，也稱光致抗蝕劑(簡稱抗蝕...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。