技術(shù)編號(hào)：2744571
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種成像復(fù)印薄膜，特別是一種靜電成像復(fù)印薄膜?？赏渡溆跋竦幕脽羝侨怂仓?，并可由一種透明的聚合物薄膜基質(zhì)和用靜電復(fù)印法加在上面的影像或印跡制成。但是，這種靜電復(fù)印法使用比較高的溫度，這就影響了聚合物薄膜的卷曲度和平直度。日本的未審查過的專利申請(qǐng)書63-11326號(hào)描述了由一種無涂層的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯薄膜制成的低畸變光學(xué)記錄介質(zhì)。此外，靜電復(fù)印的影像可能缺乏持久性，即在重復(fù)的觸摸和使用中耐磨性較差，除非是采取特殊的措施，使薄膜基質(zhì)與影像層之間...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。