技術編號：2744557
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。涂膠顯影機熱處理單元本發(fā)明涉及半導體晶片制造領域，尤其涉及一種涂膠顯影機熱處理單元。背景技術涂膠顯影機廣泛應用于半導體晶片加工處理過程，尤其是在涂膠顯影過程中，包 括粘附促進劑涂層、光刻膠、前烘、曝光、抗蝕層、后烘等過程的處理。普通的涂膠顯影機中 熱處理單元(Heat treatment unit)的加熱板、冷卻板以及粘附板等普遍只采用一塊圓形 熱板，并且在熱板的中心只有一個鉬電阻溫度傳感器，因此溫度監(jiān)控不到位，溫度控制不靈 敏，容易造成溫度不均勻，引起風...
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