技術(shù)編號：2744144
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于基板制造的曝光方法及其對位裝置，具體而言，涉及一種用于等離子大尺寸基板制造的曝光方法及其對位裝置。 背景技術(shù)隨著微電子技術(shù)的不斷發(fā)展，對光刻設(shè)備精度的要求越來越高。在平板顯示器的 制作領(lǐng)域，要求基片多次曝光后必須達(dá)到較高的套刻精度。尤其在等離子基板制作工序中， 不但要保證曝光工序光刻圖形的一致性及位置精度，還要顧及到在后工序加工(如熒光粉 噴涂等)中與曝光圖形的位置精度問題。 為了在等離子基板上曝光圖形，采用制作成圖形底板的掩模，通過CC...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。