技術(shù)編號(hào)：2743744
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在減壓氣氛中，將掩模(包含初縮掩模版)的圖形復(fù)制到感應(yīng)基板上的曝光方法和曝光裝置。特別是涉及一種能容易進(jìn)行掩模交換和溫度管理的曝光方法和曝光裝置。圖5所示的曝光裝置的主體100包括照明光學(xué)系統(tǒng)鏡筒101；初縮掩模版容納腔103；投影光學(xué)系統(tǒng)鏡筒105；晶片容納腔107。在裝置主體100上部的照明光學(xué)系統(tǒng)鏡筒101內(nèi)具有電子槍和射束形成孔徑、聚光透鏡(condenser lens)、射束偏轉(zhuǎn)器等，但其圖示省略。投影光學(xué)系統(tǒng)鏡筒105通過初縮掩模...
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