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用于光刻設(shè)備中的晶片粗對(duì)準(zhǔn)的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2742189

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本發(fā)明涉及一種。另外,本發(fā) 明還涉及一種用于制造半導(dǎo)體器件的方法。此外,本發(fā)明涉及一種光刻 設(shè)備和一種計(jì)算機(jī)程序。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上(通常應(yīng)用到所述襯底的目標(biāo)部分上)的機(jī)器。例如,可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可以將可選地稱為掩?;蜓谀0娴膱D案形成裝置用于生成待形成在所述ic的單層上的電路圖案??梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例如,硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如,包括一部分管芯、 一個(gè)或多 個(gè)管芯)上。典型地,經(jīng)由...
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