技術(shù)編號：2742009
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種微光學(xué)器件的制作方法，尤其涉及一種微光學(xué)器件移動數(shù)字 掩模制作方法。背景技術(shù)微光學(xué)器件的制作方法是近年來國內(nèi)外微光領(lǐng)域研究的熱門。與微光學(xué)器 件相關(guān)的各種設(shè)計和分析方法己經(jīng)逐漸成熟，但相應(yīng)的大規(guī)模、高效率、快速 制作及復(fù)制技術(shù)卻受到各種條件的限制，尤其是在國內(nèi)，還未到達(dá)實用化階段。 目前新興的無掩模光刻技術(shù)采用電尋址空間光調(diào)制器，為大規(guī)模、快速、靈活 制作微光學(xué)器件及其陣列開辟了一條新的道路。采用的電尋址空間光調(diào)制器如 數(shù)字微鏡器件DMD (...
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