技術(shù)編號(hào)：2741807
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種抗蝕劑及采用該抗蝕劑的納米壓印方法，尤其涉及一種納米壓印 抗蝕劑及采用該納米壓印抗蝕劑的納米壓印方法。背景技術(shù)在現(xiàn)有技術(shù)中，制作各種半導(dǎo)體設(shè)備時(shí)，常需要制作具有數(shù)十納米到數(shù)百納米的 微細(xì)結(jié)構(gòu)的納米圖形。具有上述微細(xì)結(jié)構(gòu)的納米圖形的制作方法主要有光或電子束的光刻 方法首先，使用經(jīng)過掩模或者掃描聚焦的輻射線或者電子束，輻射光致抗蝕劑組合物或掩 膜，上述輻射線或電子束將會(huì)改變被曝光區(qū)域的抗蝕劑的化學(xué)結(jié)構(gòu)；然后，再通過刻蝕的方 法除去被曝光區(qū)域或者被...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。