技術(shù)編號(hào)：2741719
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是涉及浸沒式光刻(ImmersionLithography)系統(tǒng)中的流場(chǎng)密封及回 收控制的裝置，特別是涉及一種用于浸沒式光刻機(jī)的柔性密封和自適應(yīng)回收裝 置。背景技術(shù)現(xiàn)代光刻設(shè)備以光學(xué)光刻為基礎(chǔ)，它利用光學(xué)系統(tǒng)把掩膜版上的圖形精確 地投影并曝光到涂過光刻膠的硅片上。它包括一個(gè)激光光源、 一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)、 一塊由芯片圖形組成的投影掩膜版、 一個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和一個(gè)涂有光敏光刻膠的硅 片。浸沒式光刻系統(tǒng)在投影透鏡和硅片之間的縫隙中填充某種液體，通過提高 該縫隙中介...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。