技術(shù)編號(hào):2740958
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于校準(zhǔn)輔助傳感器系統(tǒng)的方法、光刻設(shè)備以及用于測(cè)量 目標(biāo)位置的位置測(cè)量系統(tǒng)。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上(通常到所述襯底的目標(biāo)部分上)的機(jī)器。例如,可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在 這種情況下,可以將可選地稱為掩?;蜓谀0?reticle)的圖案形成裝置用于 生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案??梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例 如,硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如,包括一部分管芯、 一個(gè)或多個(gè)管芯) 上。典型地,經(jīng)由成像將所...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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