技術(shù)編號：2740080
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型是一種用于高功率激光器中、可在目標(biāo)靶面獲得均勻的光斑強(qiáng)度分布，并且可靈活地改變目標(biāo)光斑的大小的激光束均勻輻照光學(xué)系統(tǒng)，屬于激光束均勻輻照光學(xué)系統(tǒng)的改造技術(shù)。背景技術(shù)高功率激光器在科學(xué)研究及工業(yè)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，這類激光器對光束的輻照均勻性提出很高的要求，但是一般情況下激光器產(chǎn)生的光束光強(qiáng)呈高斯分布而不是均勻分布，而且光束在傳輸過程中不可避免地存在強(qiáng)度和相位的畸變，影響其在目標(biāo)靶面的輻照質(zhì)量。目前，透鏡列陣是應(yīng)用較廣泛的一種光束整形和勻滑器件，它...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。