技術(shù)編號：2739132
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻機(jī)制造領(lǐng)域，尤其涉及。技術(shù)背景光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)和制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備之一 ，光刻機(jī)光刻分辨率 是決定光刻機(jī)性能的關(guān)鍵指標(biāo)。眾所周知，光學(xué)系統(tǒng)中的散射光即雜散光將影 響其成像的對比度，從而降低光學(xué)系統(tǒng)的分辨率。隨著光刻特征尺寸的減小， 光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)中的雜散光對光刻質(zhì)量的影響越來越突出，雜散光周期性的原 位檢測已成為先進(jìn)的投影光刻機(jī)中不可或缺的功能。J. Kirk等人于1999年提出了一種光刻機(jī)投影物鏡雜散光的檢測技術(shù)，其 工作原理為按照一...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。