技術(shù)編號：2738480
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明的示例性實施方案涉及光致酸生成劑(photoacid generators)、包含該光致酸生成劑的光致抗蝕劑組合物以及使用該光致抗蝕劑組合物形成圖案的方法。例如，本發(fā)明的某些實施方案涉及能夠用于在襯底上形成具有均勻外形(profile)的圖案的光致酸生成劑、包含該光致酸生成劑的光致抗蝕劑組合物以及使用該光致抗蝕劑組合物形成圖案的方法。 背景技術(shù) 現(xiàn)在，具有更高集成度的半導(dǎo)體器件正處于高度需要之中。因此，正在對形成線寬等于或小于100nm的精細(xì)圖...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。