技術(shù)編號：2738081
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及包括將放置于投射物鏡物面中的圖案成像到投射物鏡像面 上的排列的多個光學(xué)元件的折反射投射物鏡。本發(fā)明進(jìn)一步涉及投射曝光設(shè) 備、采用這樣的投射物鏡的投射曝光方法以及鏡。背景技術(shù)微光刻(microlithographic )工藝通常用于諸如集成電路(IC )液晶元件、 微構(gòu)圖構(gòu)件和微機(jī)械部件的半導(dǎo)體元件的制造中。用于光刻的投射曝光設(shè)備一般包括配置為將來自光源的原始光變形為 照明光的照明系統(tǒng)以及投射物鏡。來自照明系統(tǒng)的光照明具有給定圖案的掩 模母版(或掩...
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