技術(shù)編號(hào)：2737487
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明與一種在微影制程中用來裝設(shè)光罩(R)的光罩支架(M)有關(guān)，特別是一種可同時(shí)裝設(shè)數(shù)塊光罩(MU)的光罩支架，以及利用該種光罩支架來進(jìn)行微影曝光的微影曝光系統(tǒng)。請(qǐng)參照附圖說明圖1，此圖顯示了傳統(tǒng)用來進(jìn)行微影程序的步進(jìn)-重復(fù)微影系統(tǒng)( )。其中，曝光光源12在通過光闌14與光罩16后，會(huì)入射至投影系統(tǒng)(projectionimage system)18中，再聚集于位在平臺(tái)20上方的晶圓22表面，而在曝光區(qū)域24中，定義出與光罩16上相同且縮小的圖案。在第一...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。