技術編號：2737023
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及對準方法、壓印方法、對準設備以及位置測量方法。 背景技術近年來，如作者為Stephan Y. Chou等在Appl. Phys. Le仏，Vol. 67， Issue 21， pp.3114-3116 ( 1995 )中所述，已經研發(fā)出了用于將配 置在印模(mold)上的精細結構壓力轉印到諸如半導體、玻璃、樹脂 或金屬的工件(或加工件)上的精細處理技術，并引起了關注。由于 其具有幾納米量級的分辨力，因此該技術被稱為納米壓印 (nanoimprin...
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