技術(shù)編號(hào)：2736958
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。對(duì)浸沒(méi)液體為疏溶的入射表面和光學(xué)窗相關(guān)申請(qǐng)的交叉參照本案對(duì)應(yīng)于2006年4月3日申請(qǐng)的美國(guó)專利臨時(shí)申請(qǐng)第 60/789,025號(hào)并主張其利益，該申請(qǐng)整體內(nèi)容包含于此。明確地說(shuō)，本公開(kāi)內(nèi)容大體上關(guān)于光學(xué)窗以及配合光學(xué)窗來(lái)使用 的光學(xué)傳感器。該光學(xué)窗例如可用在運(yùn)用深紫外(DUV)光的浸沒(méi)微光 刻(microlithography )系統(tǒng)的基板臺(tái)座(stage)之中或配合運(yùn)用深 紫外(DUV)光的浸沒(méi)微光刻系統(tǒng)的基板臺(tái)座來(lái)使用。這種光學(xué)窗用來(lái) 隔離與保護(hù)傳感器(...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。