技術(shù)編號：2734596
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種剝離液及其制備方法與應(yīng)用。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件的生產(chǎn)技術(shù)中通常包括在半導(dǎo)體基片或者玻璃基片上依次進行設(shè)置金屬或金屬氧化物層的金屬配線形成工序；設(shè)置光致抗蝕劑層的工序；在光致抗蝕劑上轉(zhuǎn)寫掩模圖形的曝光工序；按照圖形對模進行蝕刻的蝕刻工序；以及除去光致抗蝕劑的剝離工序。光致抗蝕劑剝離是通過剝離液和光致抗蝕劑的化學(xué)反應(yīng)，使光致抗蝕劑膨脹、軟化并溶解。但近年，在半導(dǎo)體元件和液晶元件的組件制造工序中，伴隨著高精細化、高集成化而引起的圖形...
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