技術編號：2733174
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種，特別是涉及 一種以微影制程來制造半導體組件、攝影組件、液晶顯示組件與薄膜磁頭 等的微裝置的曝光裝置。背景技術在此種典型曝光裝置中，從光源發(fā)射出的光束經(jīng)由做為光學積分器的 復眼透鏡，形成由多數(shù)光源所構成的做為實質面光源的二次光源。來自二 次光源的光束，經(jīng)過配置在復眼透鏡后側焦平面附近的光圈加以限制后， 便入射至聚焦透鏡。被聚焦透鏡所聚光的光束則重疊地照明到已形成預定圖案的光罩上。 穿透過光罩圖案的光則經(jīng)過投影光學系統(tǒng)，成像在晶圓上。以此方式，...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。