技術(shù)編號：2732713
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于投影光刻系統(tǒng)中的調(diào)焦調(diào)平檢測方法與裝置，它的 主要功能是對曝光硅片的表面相對于投影物鏡的距離以及硅片二維傾斜角度 進行高精度檢測，特別是一種具有多點同時測量的調(diào)焦調(diào)平傳感器，屬于光學 測量領(lǐng)域。背景技術(shù)在投影光刻系統(tǒng)中，硅片調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)在光刻機中用來測量硅片表面相對于投影物鏡的高度和轉(zhuǎn)角(Z、 ^和&)，與工件臺垂向3個執(zhí)行器構(gòu)成反 饋系統(tǒng)，實時控制硅片的垂向位置，保證硅片當前場在曝光過程中始終處于投 影物鏡的焦深范圍內(nèi)。在...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。