技術編號：2732648
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術區(qū)域本發(fā)明涉及在制造半導體元件、液晶顯示元件、攝象元件、薄膜磁頭等各種微型器件的光刻工藝中使用的曝光裝置和曝光方法、以及采用該方法的器件制造方法。 背景技術 在用光刻技術制造半導體元件、液晶顯示元件、攝象元件(CCD等)、薄膜磁頭等微型器件時，使用在涂布感光膠的圓片(或玻璃片)上通過投影光學系統(tǒng)對作為掩膜的標線圖形象進行投影曝光的曝光裝置。在這樣的曝光裝置中，對應于微型器件的微細化，為提高圓片上形成的圖形的析象清晰度，對曝光光縮短波長。為此，作為曝光光...
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