技術(shù)編號：2732585
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光刻檢測裝置，尤其涉及一種檢測指定光強值所對應目標位置 的方法。背景技術(shù)對曝光成像質(zhì)量進行檢測的光刻檢測裝置，通常由掩模臺1，投影物鏡2， 工件臺3組成，如圖l所示，工件臺3可實現(xiàn)水平X、 Y方向和垂向方向運動， 檢測裝置用于將掩模上的圖形以一定的比例轉(zhuǎn)移到工件臺3上，工件臺3上裝 有傳感器4，用于采集光強信號，實現(xiàn)像質(zhì)檢測。檢測裝置曝光時，掩模上的通孔標記投影到工件臺上，其邊緣線條的像是 一段光強漸變的區(qū)域，如圖2所示。我們在很多像質(zhì)檢測中需要...
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