技術(shù)編號：2730939
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種對基板進(jìn)行處理的基板處理裝置。 背景技術(shù)為了對半導(dǎo)體基板、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、光盤 用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板等各種基板進(jìn)行各種各 樣的處理，而采用基板處理裝置。在這樣的基板處理裝置中， 一般對一張基板連續(xù)地進(jìn)行多種不同的處理。在日本特開2003—324139號公報(bào)上所記載的基板處理裝置由分度器區(qū)、反射 防止膜用處理區(qū)、抗蝕膜用處理區(qū)、顯影處理區(qū)以及接口區(qū)構(gòu)成。而且，以 與接口區(qū)相鄰接的方式配置有曝光裝...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。