技術(shù)編號(hào):2730921
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體裝置的圖案形成方法,更具體地涉及一種圖案分 解方法,其能夠以雙重曝光來(lái)達(dá)成傳統(tǒng)上要^f吏用三重曝光法才能實(shí)現(xiàn)的復(fù)雜 布局圖案。背景技術(shù)作為使用相同波長(zhǎng)及曝光系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)來(lái)增加分辨率的方法之 一,已經(jīng)發(fā)展出雙重曝光技術(shù)。雙重曝光技術(shù)涉及到分解復(fù)雜的圖案,從而 首先曝光一個(gè)圖案且其次曝光其他圖案。這種使用雙重曝光的半導(dǎo)體制造方 法通常包括兩道掩模工藝以及兩道蝕刻工藝。換言之,要以先執(zhí)行該第一掩 模及蝕刻工藝然后執(zhí)行該第二掩模及蝕刻...
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