技術(shù)編號(hào):2730915
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種具有平面電機(jī)驅(qū)動(dòng)支架的光刻設(shè)備。 背景技術(shù)光刻設(shè)備是把期望的圖案施加到襯底上、通常施加到該襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如,光刻設(shè)備可以用于制造集成電路(ic)。在這種情況下,可以使用構(gòu)圖裝置(代替地稱作掩模或掩模板)來(lái)產(chǎn)生將在IC的單獨(dú)層上形成的電路圖案。這個(gè)圖案可以被轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片)的目標(biāo)部分(例如包括一個(gè)或若干管芯的部分)上。典型地, 經(jīng)由成像將所述圖案轉(zhuǎn)移到襯底上提供的對(duì)輻射敏感材料(抗蝕劑) 層上。通常,單獨(dú)的襯底將包含連續(xù)形成...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。