技術編號：2729920
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于測量已經(jīng)在光刻設備中提供有圖案的襯底的參數(shù)的計量工具，所述參數(shù)例如是重疊(Ovl)和/或臨界尺寸(CD)和/或薄膜厚度(FT)和/或?qū)拥恼凵渎?RI)和/或宏缺陷和/或微缺陷。本發(fā)明還涉及包括光刻設備和計量工具的系統(tǒng)，以及用于確定來自光刻設備的襯底的所述參數(shù)的方法。背景技術 導向裝置(track)是一種將一個或多個光敏膜(零個或多個薄膜可以是抗反射涂層以改進光刻設備的成像性能)施加于襯底上的機器。每個薄膜的厚度和折射率可能是臨界的并且因此必須...
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