技術(shù)編號：2729316
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于大面積微納結(jié)構(gòu)制作的裝置。背景技術(shù) 目前，用于微納結(jié)構(gòu)制作的技術(shù)主要有光學(xué)光刻、電子束光刻、離子束光刻和納米壓印技術(shù)等。然而在制作大面積微納結(jié)構(gòu)時，對于光學(xué)光刻技術(shù)，光刻系統(tǒng)的曝光波長越來越短，系統(tǒng)的數(shù)值孔徑越來越大，分辨力和焦深之間的矛盾越來越突出。電子束光刻和離子束光刻的分辨力盡管很高，但效率低下，不適合制作大面積結(jié)構(gòu)。納米壓印技術(shù)盡管具有分辨力高、重復(fù)性好等優(yōu)點，但在大面積納米壓印模板的制作方面遇到很大的困難。現(xiàn)有的微納加工技術(shù)存在...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。