技術(shù)編號：2729127
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造中的光刻系統(tǒng)，尤其涉及一種多光罩平臺 的曝光系統(tǒng)；此外，本發(fā)明還涉及一種多光罩平臺的曝光方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造中，現(xiàn)有的單光罩平臺曝光系統(tǒng)只有一個(gè)光罩平臺， 且該光罩平臺僅裝載一塊光罩，該單光罩平臺曝光系統(tǒng)的光刻曝光流程 如圖1所示，在曝光之前，如果需要用不同的光罩曝光，則需要先進(jìn)行 光罩的切換，對準(zhǔn)，光罩平臺和曝光平臺的校準(zhǔn)，然后才能進(jìn)行硅片的 切換，對準(zhǔn)和曝光。在實(shí)際生產(chǎn)中，有相當(dāng)一部分時(shí)間被用在光罩的切 換和對準(zhǔn)上，此時(shí)硅...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。