技術(shù)編號：2729113
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造中的光刻顯影工藝。技術(shù)背景 _光刻顯影工藝是半導(dǎo)體制造中的一項重要的技術(shù)。光刻中，硅片在涂 膠/顯影機中經(jīng)歷了一系列的工藝步驟。預(yù)處理硅片的上表面涂膠、甩膠、 烘焙(常稱軟烘)。設(shè)備內(nèi)部的自動傳送裝置將硅片在各操作位之間轉(zhuǎn)移。 另一套傳送裝置將經(jīng)過涂膠處理的硅片每次一片地送入對準(zhǔn)與曝光系統(tǒng)。 光刻機將特定掩膜的圖形直接刻印在涂膠的硅片上。曝光后的硅片從曝光 系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到硅片軌道系統(tǒng)后，需要進行短時間的曝光后烘焙(常稱后烘)， 以提供光...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。