技術(shù)編號：2728877
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及測量在曝光裝置中使用的投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑的測量方法以及裝置。在使用光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體存儲器、邏輯電路等微細的半導(dǎo)體元件時，以往使用投影曝光裝置。投影曝光裝置用投影光學(xué)系統(tǒng)把描畫在掩膜原版(掩膜)上的電路圖案投影在晶片等上進行電路圖案的轉(zhuǎn)印。背景技術(shù) 在投影曝光裝置中能夠轉(zhuǎn)印的最小的尺寸(分辨率)與在曝光中使用的光的波長成正比，與投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(NA)成反比。因而，如果使波長越短，此外如果使NA越高，則分辨率越好。因此，伴隨對近年的半導(dǎo)...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。