技術編號：2728861
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及壓印光刻(imprint lithography)工藝，并尤其涉及用于壓印光刻工藝的抗蝕劑成分、采用該抗蝕劑成分形成抗蝕劑圖案的方法、采用其制造的陣列基板以及該陣列基板的制造方法。背景技術 通常，執(zhí)行多輪薄膜構(gòu)圖工藝來制造顯示圖像的平板顯示元件。一般而言，采用光刻工藝執(zhí)行薄膜構(gòu)圖工藝。這里，光刻工藝包括采用曝光和顯影工藝在薄膜上形成抗蝕劑圖案的步驟，采用該抗蝕劑圖案作為蝕刻掩模而蝕刻該薄膜的步驟以及從該薄膜上去除抗蝕劑圖案的步驟。由于執(zhí)行光刻工藝...
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