技術(shù)編號：2728563
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及溶解由光刻工序形成、作為掩模使用的抗蝕劑圖形，進行形成新的抗蝕劑圖形的回流處理的。背景技術(shù) 例如，在LCD(液晶顯示器)制造工序的非結(jié)晶(amorphous)SiTFT(非晶硅薄膜晶體管)的形成中，必需進行多次蝕刻處理。因此，在現(xiàn)有技術(shù)中，進行多次光刻工序、即曝光和顯影處理，形成光致抗蝕劑圖形。然而，在TFT形成工序中，對每一個希望由蝕刻得到的圖形來說，都必需有顯影裝置和曝光裝置，存在裝置成本變高的問題。對于這個問題，通過使作為一次蝕刻掩模使用的...
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