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掩膜布局的測(cè)量方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2727559

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本發(fā)明涉及一種測(cè)量方法,特別涉及一種。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體工藝中,線(xiàn)寬微距控制是一個(gè)很重要的環(huán)節(jié),若無(wú)法有效的控制線(xiàn)寬在各個(gè)方 向上的變異,則在后續(xù)的曝光工藝中將會(huì)面臨曝光在芯片片上的圖形發(fā)生斷線(xiàn)或橋接的現(xiàn)象, 進(jìn)而導(dǎo)致最終的電子組件在電性上出現(xiàn)短路的問(wèn)題。而在現(xiàn)有的技術(shù)中,為了確保線(xiàn)寬微距 是否落在可接受的變異范圍內(nèi),就目前的掩膜生產(chǎn)流程而言,用以確認(rèn)線(xiàn)寬微距的方法多半 是透過(guò)光學(xué)檢測(cè)機(jī)臺(tái)以實(shí)現(xiàn)。目前較常使用的光學(xué)檢測(cè)機(jī)臺(tái)為光學(xué)顯微鏡,其可提供一光源以投射...
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