技術(shù)編號(hào)：2727501
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微光學(xué)器件制作領(lǐng)域，具體涉及一種微光學(xué)器件的高分辨率并行直寫制作方法及由該方法所設(shè)計(jì)的制作系統(tǒng)。背景技術(shù) 激光直寫技術(shù)是隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展而于20世紀(jì)80年代中期提出的，雖然歷史并不很長，但卻取得了長足的進(jìn)步。在90年代初，激光直寫系統(tǒng)開始廣泛應(yīng)用于微光學(xué)器件的制作，大大提高了微光學(xué)器件的性能，為微光學(xué)技術(shù)的推廣應(yīng)用打下了良好的基礎(chǔ)?，F(xiàn)有的較為成熟的激光直寫系統(tǒng)大都是逐點(diǎn)曝光式的，其直寫焦斑大小為微米級(jí)，所能實(shí)現(xiàn)的最小特征尺寸亦只能達(dá)到微米...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。