技術(shù)編號：2727277
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明有關(guān)一種制造壓印模板的方法及所制得的壓印模板，特別是有關(guān) 一種以半導(dǎo)體工藝制造壓印模板的方法及所制得的壓印模板。背景技術(shù)納米壓印技術(shù)主要是針對發(fā)展lOOnm以下線寬的光刻技術(shù)。在納米壓 印的各類技術(shù)中，可歸納為三大主流技術(shù)(l)熱壓成形式納米壓印 (nanoimprintlithography, NIL)透過熱壓方式達(dá)到大面積的納米結(jié)構(gòu)壓印； (2)步進(jìn)光感成形式納米壓印(step and flash imprinting lithography, ...
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