技術(shù)編號(hào)：2726941
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明所述的是應(yīng)用光投射在一曝光表面上進(jìn)行光學(xué)掃描的系統(tǒng)和方法。較為 特別的是，本發(fā)明所涉及的乃是對(duì)于半導(dǎo)體或其他電子制造方面應(yīng)用的平面印刷設(shè) 備中在一表面上進(jìn)行無縫隙光投射掃描的投射與掃描系統(tǒng)。背景技術(shù)盡管常規(guī)的光學(xué)平面印刷技術(shù)由于通過一些特性圖樣的平行生成過程而達(dá)到 高的生產(chǎn)量而具有很大優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)在很廣泛地應(yīng)用于微電子元件的大批量生產(chǎn)中，然 而這種平面印刷技術(shù)仍有一些局限性和缺點(diǎn)。為了克服這些局限性和缺點(diǎn)，已經(jīng)開 發(fā)和披露了各種各樣的無掩模平版印刷技術(shù)。...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。