技術(shù)編號(hào)：2726358
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微電子襯底的處理，更具體而言，涉及輔助這樣的處理的 邊緣擴(kuò)展元件。背景技術(shù)半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展的一個(gè)必要條件是能夠在集成電路(IC)上印刷更小的特征。然而，近年來，光學(xué)光刻正面臨著幾個(gè)挑戰(zhàn)，其阻礙了半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。已經(jīng)投資這樣的技術(shù)例如x輻射光刻和電子束光刻作為 傳統(tǒng)光學(xué)光刻的替代。然而，由于光學(xué)浸沒光刻潛在地滿足了用于印刷較 小尺寸的特征的改進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)的需要，所以己經(jīng)受到了關(guān)注。光學(xué)光刻系統(tǒng)可以印刷的特征的最小尺寸由下面的公式?jīng)Q定Eq.l...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。