技術(shù)編號：2725713
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請在35 U.S. C § 119(e)下要求2009年11月19日提交的號為61/281，681 和2009年12月31日提交的號為61/335，168的U. S.臨時申請的優(yōu)先權(quán)，這些申請的整個 內(nèi)容在此并入作為參考。本發(fā)明一般地涉及電子器件的制造。更具體地，本發(fā)明涉及光刻工藝，其容許光刻 膠圖形的尺寸的控制。本發(fā)明還涉及可在本發(fā)明的方法中使用的用于處理光刻膠圖形的化 合物。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造工業(yè)中，光刻膠材料用于將圖像轉(zhuǎn)印到一個或更多的下層 (...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。