技術(shù)編號(hào)：2717487
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及新穎的正性作用、可光成像、且水性顯影的抗反射涂料組合物以及它們通過在反射襯底和光致抗蝕涂層之間形成新穎的抗反射涂料組合物的薄層而應(yīng)用于圖像處理。上述組合物尤其可用于通過光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體器件，特別是需要深紫外線曝光的那些。這些涂料與邊緣粒珠去除劑的使用特別兼容。背景技術(shù)光致抗蝕劑組合物用于諸如制造計(jì)算機(jī)芯片和集成電路之類的制備小型化電子器件的微蝕刻方法。通常，在這些方法中，光致抗蝕劑組合物涂膜涂料首先涂布至諸如用來制備集成電路的硅片之類的襯底材料...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。