技術(shù)編號：2716125
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了,包括襯底(101)，位于襯底(101)上的單晶硅層(102)及位于單晶硅層(102)上的正交狹縫結(jié)構(gòu)，正交狹縫結(jié)構(gòu)包括正交結(jié)構(gòu)的狹縫區(qū)域(104，105，107)，位于狹縫區(qū)域(104，105，107)正交交匯的中心區(qū)域(108)及包圍狹縫區(qū)域(104，105，107)的周圍區(qū)域(103，106)，中心區(qū)域(108)的折射率小于狹縫區(qū)域(104，105，107)的折射率，周圍區(qū)域(103，106)的折射率大于狹縫區(qū)域(104，105，107)...
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