技術(shù)編號：2715935
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種，將玻璃基體置于具有混合反應(yīng)氣體的反應(yīng)室中實施等離子體刻蝕制程，通過控制刻蝕參數(shù)使刻蝕過程中在玻璃基體的表面生成的納米級島狀聚合物薄膜作為刻蝕過程的掩膜，以使在所述的玻璃基體的表面生成隨機分布的折射率漸變的錐形減反射微納結(jié)構(gòu)。本發(fā)明無需任何掩膜技術(shù)僅需調(diào)整反應(yīng)離子刻蝕的工藝即可在基體表面制備減反射效果明顯的亞波長微結(jié)構(gòu)，突破模版技術(shù)的諸多限制，大大簡化了工藝流程；可以在不同種類的玻璃表面制備亞波長微結(jié)構(gòu)，突破材料的限制；可以應(yīng)用在任意形狀光...
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