技術(shù)編號：2712618
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種。該紫外掩膜包括覆設(shè)于彩色濾光片基板的顯示區(qū)的黑色矩陣光阻層；其制作方法包括在彩色濾光片基板上覆設(shè)黑色矩陣光阻材料，并選擇性地除去分布于所述基板的非顯示區(qū)的黑色矩陣光阻材料，而保留分布于所述基板的顯示區(qū)的黑色矩陣光阻材料，以及，使分布于所述顯示區(qū)的黑色矩陣光阻材料固化，形成所述紫外掩膜。本發(fā)明通過采用CF制程代替現(xiàn)有的Array制程，只需彩色濾光片黑色光阻(簡稱為CF?BM)黃光制程即可完成紫外掩膜的制作，相比Array制程減少了一次成膜，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。